| Kap. |
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| 1. | niedrigste und höchste Konzentration etwa um den Faktor 100 auseinander |
| 2. | die Ligandkonzentrationen sollen geometrisch (nicht arithmetisch) äquidistant liegen |
| 3. | sollen etwa symmetrisch um den zu erwartenden KD -Wert liegen |
| Radioligand: | [3H]Glycin | [3H]Mk-801 | [3H]Kainsäure |
| zu erwartende KD | 40 - 80 nM | 5 - 20 nM | 0.7 - 1.5 nM |
| Ligandkonzentr. | 10, 30, 100, 300 nM | 1, 3, 10, 30, 100 nM | 0.2, 0.6, 2, 6, 20 nM |
| (1) | sind einige 100 bis 2 000 dpm als Ergebnis genug; |
| (2) | spart man damit Geld; und |
| (3) | senkt man das Kontaminationsrisiko. |
| 1. Konz. | 2. Konz. | 3. Konz. | 4. Konz. | |
| [3H-Glycin] | 10 nM | 10 nM | 10 nM | 10 nM |
| [1H-Glycin] | - | 20 nM | 90 nM | 290 nM |
| Gesamtkonzentration | 10 nM | 30 nM | 100 nM | 300 nM |
| spezifische Aktivität | 22 Ci/mMol | 7.3 Ci/mMol | 2.2 Ci/mMol | 0.73 Ci/mMol |
| Korrekturfaktor | 1 | 3 | 10 | 30 |
| 1. Konz. | 2. Konz. | 3. Konz. | 4. Konz. | 5. Konz. | |
| [3H-MK-801] | 1 nM | 3 nM | 3 nM | 3 nM | 3 nM |
| [1H-MK-801] | - | - | 7 nM | 27 nM | 97 nM |
| Gesamtkonzentration | 1 nM | 3 nM | 10 nM | 30 nM | 100 nM |
| spezifische Aktivität | 39 Ci/mMol | 39 Ci/mMol | 12 Ci/mMol | 3.9 Ci/mMol | 1.2 CimMol |
| Korrekturfaktor | 1 | 1 | 3.33 | 10 | 33.3 |
| 1. | Subtraktion der unspezifischen Bindung |
| 2. | Umrechnung auf einheitliche spezifische Aktivität (Multiplikation mit 'Korrekturfaktor') |
| 3. | Umrechnung auf molare Einheiten |
| 4. | Bezug auf Gewichtseinheit des Gewebes (abhängig von der Membranpräparation) |
| 5. | Graphische Darstellung und/oder Auswertung mittels Computerprogramm |
| Die unspezifische Bindung nimmt linear mit der Konzentration des Radioliganden zu und muß nur bei der höchsten Konzentration bestimmt werden (offener Kreis 1). Für andere Konzentrationen werden die Werte zwischen diesem einem Wert und dem Leerwert der Szintillationszählung (2) linear interpoliert. Der Leerwert muß unter den gleichen Bedingungen wie die Proben gemessen werden (gleiches Volumen an Szintillator, Filter, ...). Merke: Zusatz von 'kaltem' Liganden erhöht nicht die Konzentration des Radioliganden und damit auch nicht die unspezifische Bindung! |
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Gesamtbindung ('total binding')
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= spezifische
Bindung ('specific binding', 3 in der Abbildung)
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Darstellung nach Scatchard: BL/L ('bound over free') gegen BL ('bound')
aufgetragen
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Vertauschung der Achsen ergibt die 'Eadie-Hofstee'-Darstellung |
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Auswertung nach Scatchard:
# Schnittpunkt mit der Abscisse = BM
# Steigung = -1/KD
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Auswertung nach Eadie & Hofstee:
# Schnittpunkt mit Ordinate = BM
# Steigung = -KD
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Michaelis-Menthen |
| ↓ x (L+KD) |
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BL/L = BM/KD - 1/KD
. BL Scatchard
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| ↓ ÷ L |
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BL + KD . BL/L
= BM
→
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| ↓ ÷ BL |
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1 + KD
. 1/L = BM/BL
→
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BM/BL - 1 = KD . 1/L |
| ↓ ÷ BM |
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1/BL = 1/BM + KD/BM . 1/L Lineweaver-Burk |
log [BL/(BM
- BL)] = -log KD + log L
Hill (siehe Kap.9) |
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Bei sehr niedrigen und bei sehr hohen
Ligandkonzentrationen (L) sind Meßfehler
unvermeidlich. Bei hohem L ist daran der hohe Anteil der unspezifischen Bindung
schuld. Bei sehr niedrigem L bewegt man sich mit den Zählraten bereits
in der Nähe des Geräte-Leerwertes. Die punktierten Begrenzungen
geben an, in welchen Bereich 90% der Meßdaten fallen werden (Eadie-
Hofstee- Darstellung).
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| 1. |
Experimentelles Artefakt (z.B. freie
Ligandkonzentration sinkt ab, zu kurze Inkubationszeiten für die niedrigsten
Ligandkonzentrationen, ...)
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| 2. | Bindung an 2 Populationen von Bindungsstellen unterschiedlicher Affinität |
| 3. | Positive oder negative Kooperativität |
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| 1. | einen Bereich von etwa 2 Zehnerpotenzen umspannen, |
| 2. | zueinander geometrisch äquidistant liegen; |
| 3. | gleichmäßig um die erwartete IC50 herum gruppiert sind. |
| Macht die Verdrängungskurve einen eher stufenförmigen Eindruck, so sollte man für die Kurvenanpassung besser eine biphasische Funktion wählen; die Hill-Koeffizienten setzt man in einem solchen Fall willkürlich gleich 1: |
Verläuft die Kurve scheinbar gleichförmig,
wählt man für die Kurvenanpassung eine monophasische Funktion mit
variablem Hill-Koeffizienten:
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| Deutlich biphasischer Verlauf; die beiden Komponenten haben IC50-Werte von 2 und 2000 nM. Die strichlierte Funktion entspricht einer einheitlichen Komponente mit IC50 = 52 nM und nH = 0.34. | In diesem Fall liegen die beiden Komponenten näher zueinander (2 und 200 nM). Fast genauso gut lassen sich die Punkte auch an eine einheitliche Funktion mit IC50 = 18 nM und nH = 0.51 anpassen. |